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スパッタリングターゲット〜前工程/パッケージング/パワー/ディスプレイ..高純度な配線/バリア層/電極の薄膜形成の必須材料

先端半導体前工程/パッケージング/パワー/ディスプレイ..高純度な配線/バリア層/電極の薄膜形成の必須材料
2025.02.01
材料
プロセス

FEOL・MEOL・BEOLとは〜前工程の3区分とコンタクト・多層配線・裏面電源供給

半導体の前工程を構成するFEOL・MEOL(MOL)・BEOLの役割と主な工程を解説します。トランジスタ構造のGAA・CFETへの変化、コンタクト抵抗と新しい金属、銅デュアルダマシン配線の課題とRu配線、裏面電源供給の量産導入もまとめました。
2020.02.27
プロセス
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