材料 スパッタリングターゲット〜前工程/パッケージング/パワー/ディスプレイ..高純度な配線/バリア層/電極の薄膜形成の必須材料 先端半導体前工程/パッケージング/パワー/ディスプレイ..高純度な配線/バリア層/電極の薄膜形成の必須材料 2025.02.01 材料
プロセス FEOL・MEOL・BEOLとは〜前工程の3区分とコンタクト・多層配線・裏面電源供給 半導体の前工程を構成するFEOL・MEOL(MOL)・BEOLの役割と主な工程を解説します。トランジスタ構造のGAA・CFETへの変化、コンタクト抵抗と新しい金属、銅デュアルダマシン配線の課題とRu配線、裏面電源供給の量産導入もまとめました。 2020.02.27 プロセス