材料 EUVフォトマスク・ブランクス〜先端リソグラフィーを支える超精密材料の全貌
EUVフォトマスク・ブランクスは、3nm・2nm先端半導体の製造に不可欠な超精密材料です。反射型マスクの構造・課題・市場動向・主要メーカーをエンジニア目線で解説します。
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