Semi

電源ユニット〜RF電源・DC電源・高圧電源の半導体装置への応用半導体製造装置において、電源ユニットは装置全体のパフォーマンスと安定性を左右する根幹コンポーネントです。プラズマCVD、エッチング、スパッタリング、イオン注入といったプロセス装置...

PLCとシーケンサ〜装置制御システムの構成と主要メーカー比較半導体製造装置において、ウェハの搬送・チャンバー圧力制御・温度管理・インターロック処理など、無数のシーケンス動作を正確にこなすために欠かせないのがPLC（プログラマブルロジックコン...

インターロックシステム〜半導体製造装置の安全設計の基本概要：インターロックシステムとは何か半導体製造装置は、プラズマ、高温、有害ガス、高電圧など、多くの危険要素を内包した精密機械です。これらの危険から作業者・装置・製品（ウェハ）を守るために...

HEPAフィルター・ULPAフィルター〜クリーンルーム装置への搭載と管理半導体製造における歩留まりと品質は、製造環境中の微小粒子（パーティクル）の管理水準に大きく左右される。デバイスの微細化が10nm以下の世代へと進むにつれ、わずか0.1μ...

ケミカルフィルター〜AMC対策と装置内空気清浄化の技術半導体デバイスの微細化が進むにつれ、製造環境における化学汚染物質（AMC：Airborne Molecular Contamination）の管理はますます重要な課題となっています。パー...

サセプター・ヒーター〜CVD・ALD装置の均熱設計と材料選定CVD（化学気相堆積）やALD（原子層堆積）装置において、ウェーハを均一に加熱するサセプターおよびヒーターは、成膜品質を左右する最重要コンポーネントのひとつです。温度分布のわずかな...

シャワーヘッド（ガス分散板）〜CVD装置のガス均一供給の仕組みCVD（化学気相堆積）装置において、成膜品質を左右する最重要部品のひとつがシャワーヘッド（ガス分散板）である。ウェーハ全面に均一な薄膜を形成するためには、反応ガスを空間的・時間的...

エッチングチャンバー内壁部材〜プラズマ耐性材料の選び方半導体製造プロセスにおいて、エッチング装置のチャンバー内壁部材は、製品品質と装置稼働率を左右する極めて重要なコンポーネントです。プラズマエッチング工程では、ハロゲン系ガス（フッ素・塩素系...

ウェハ搬送ロボット〜エンドエフェクタの材質と設計ポイント半導体製造プロセスにおいて、ウェハ搬送ロボットは工程間の自動化を支える中核技術である。中でも、ウェハと直接接触するエンドエフェクタ（ウェハハンド・ブレード）は、装置の歩留まりや信頼性を...