材料 CVD成膜ガス~シリコン/酸化膜/窒化膜/化合物/メタル..半導体/電子デバイスの薄膜堆積に不可欠な材料 半導体、電子デバイス産業の発展に欠かせないCVD成膜ガス。本記事では、CVD成膜ガスの基礎知識から最新の市場動向、主要メーカーまで、エンジニア必見の情報を徹底解説します。CVD成膜ガスに関する最新ニュース超薄型マスフローコントローラーが登場... 2025.01.23 材料
装置 CVD装置〜絶縁層からメタル配線まで、高い膜厚均一性を実現する薄膜形成プロセスの主役 半導体製造において欠かせないCVD(Chemical Vapor Deposition)装置。本記事では、CVD装置の基本から最新のトレンド、市場動向まで、包括的に解説します。半導体業界に携わる方々や、技術動向に興味のある方必見の内容です。... 2024.04.25 装置