装置 PVD装置〜スパッタリング、蒸着:半導体、ディスプレイのメタル配線、バリア層など均一な薄膜形成に必須 半導体製造において欠かせないPVD(物理気相成長法)装置。スパッタリング装置は、ターゲットと呼ばれる円盤状の材料に、アルゴンを高エネルギーでぶつけてアルゴン電子に弾き出された原子をウエハ表面に成膜させます。蒸着装置は、真空容器中で蒸着材料を... 2025.01.02 装置
プロセス 半導体パッケージング工程の基本的な流れと最新トレンド 半導体パッケージングは、シリコンウエハ上に作られた素子を製品として取り扱えるようにするための最終工程です。この工程は、微細化と高集積化が進む半導体チップの性能を最大限に引き出すために、ますます重要性を増しています。本記事では、半導体パッケー... 2023.02.14 プロセス