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装置構成部材

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PLCとシーケンサ〜装置制御システムの構成と主要メーカー比較

PLCとシーケンサ〜装置制御システムの構成と主要メーカー比較半導体製造装置において、ウェハの搬送・チャンバー圧力制御・温度管理・インターロック処理など、無数のシーケンス動作を正確にこなすために欠かせないのがPLC(プログラマブルロジックコン...
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電源ユニット〜RF電源・DC電源・高圧電源の半導体装置への応用

電源ユニット〜RF電源・DC電源・高圧電源の半導体装置への応用半導体製造装置において、電源ユニットは装置全体のパフォーマンスと安定性を左右する根幹コンポーネントです。プラズマCVD、エッチング、スパッタリング、イオン注入といったプロセス装置...
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流量センサ〜液体・気体別の計測方式と装置への組み込み方

流量センサ〜液体・気体別の計測方式と装置への組み込み方半導体製造装置において、流量センサは工程品質を左右するきわめて重要な計測デバイスである。CVD・ALD・エッチング・洗浄・CMP など多岐にわたるプロセスでは、原料ガスや薬液の流量を精密...
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真空センサ(ピラニ・キャパシタンスマノメータ)〜真空プロセス管理の基礎

真空センサ(ピラニ・キャパシタンスマノメータ)〜真空プロセス管理の基礎半導体製造プロセスにおいて、真空環境の精密な管理は製品品質を左右する最重要因子のひとつです。CVD、PVD、エッチング、イオン注入など、主要なプロセスのほぼすべてが特定の...
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圧力センサ〜半導体製造装置での使われ方と選定ポイント

圧力センサ〜半導体製造装置での使われ方と選定ポイント半導体製造プロセスでは、チャンバー内の真空度管理、プロセスガスの流量制御、冷却水の圧力監視など、あらゆる工程で圧力の精密な計測が求められます。わずかな圧力変動が歩留まりや製品品質に直結する...
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温度センサ(熱電対・RTD・放射温度計)〜プロセス別の選び方

温度センサ(熱電対・RTD・放射温度計)〜プロセス別の選び方半導体製造プロセスにおいて、温度管理は製品の歩留まりと品質を左右する最重要パラメータのひとつです。成膜、エッチング、熱処理、CMP(化学機械研磨)など、各プロセスステップでは精密な...
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