装置構成部材

概要：半導体製造装置におけるバルブの重要性半導体製造装置において、バルブは流体（ガス・薬液・超純水）の流量・圧力・遮断を精密に制御するための中心的なコンポーネントです。プロセスの歩留まりや装置の安定稼働に直結するため、バルブの選定ミスは生産...

半導体製造プロセスにおいて、ガスの純度と圧力の安定性は歩留まりと直結する最重要パラメーターのひとつです。プロセスガスや各種ユーティリティガスを装置内に供給する際、不純物・パーティクル・水分の混入や圧力変動を許容することはできません。そこで欠...

圧力センサ〜半導体製造装置での使われ方と選定ポイント半導体製造プロセスでは、チャンバー内の真空度管理、プロセスガスの流量制御、冷却水の圧力監視など、あらゆる工程で圧力の精密な計測が求められます。わずかな圧力変動が歩留まりや製品品質に直結する...

温度センサ（熱電対・RTD・放射温度計）〜プロセス別の選び方半導体製造プロセスにおいて、温度管理は製品の歩留まりと品質を左右する最重要パラメータのひとつです。成膜、エッチング、熱処理、CMP（化学機械研磨）など、各プロセスステップでは精密な...

流量センサ〜液体・気体別の計測方式と装置への組み込み方半導体製造装置において、流量センサは工程品質を左右するきわめて重要な計測デバイスである。CVD・ALD・エッチング・洗浄・CMP など多岐にわたるプロセスでは、原料ガスや薬液の流量を精密...

真空センサ（ピラニ・キャパシタンスマノメータ）〜真空プロセス管理の基礎半導体製造プロセスにおいて、真空環境の精密な管理は製品品質を左右する最重要因子のひとつです。CVD、PVD、エッチング、イオン注入など、主要なプロセスのほぼすべてが特定の...

電源ユニット〜RF電源・DC電源・高圧電源の半導体装置への応用半導体製造装置において、電源ユニットは装置全体のパフォーマンスと安定性を左右する根幹コンポーネントです。プラズマCVD、エッチング、スパッタリング、イオン注入といったプロセス装置...

PLCとシーケンサ〜装置制御システムの構成と主要メーカー比較半導体製造装置において、ウェハの搬送・チャンバー圧力制御・温度管理・インターロック処理など、無数のシーケンス動作を正確にこなすために欠かせないのがPLC（プログラマブルロジックコン...

インターロックシステム〜半導体製造装置の安全設計の基本概要：インターロックシステムとは何か半導体製造装置は、プラズマ、高温、有害ガス、高電圧など、多くの危険要素を内包した精密機械です。これらの危険から作業者・装置・製品（ウェハ）を守るために...

HEPAフィルター・ULPAフィルター〜クリーンルーム装置への搭載と管理半導体製造における歩留まりと品質は、製造環境中の微小粒子（パーティクル）の管理水準に大きく左右される。デバイスの微細化が10nm以下の世代へと進むにつれ、わずか0.1μ...