デバイス フォトマスク〜ムーアの法則を支える! EUVリソグラフィの要!光で描くナノオーダーの超微細回路〜 半導体製造において欠かせないフォトマスク。微細化が進む半導体デバイスの製造に不可欠な、この重要技術の基礎から最新動向まで、詳しく解説します。フォトマスク関連の最新ニュースEUVリソグラフィ向け2nm世代フォトマスクの開発進展大日本印刷(DN... 2025.01.13 デバイス
装置 露光装置(リソグラフィー)~2nm微細パターン形成用EUV/チップレット向け大判インターポーザ/直接描画/ナノインプリント..多様なニーズに応える 半導体製造の要、露光装置。この記事では、最新のEUV技術から従来のArF液浸技術まで、露光装置の全貌に迫ります。2024年、半導体業界は大きな転換期を迎えています。日本企業Rapidusが国内初のEUV露光装置を導入し、世界最先端の半導体製... 2020.03.19 装置